GC900E型氣相色譜儀儀器特點及技術(shù)參數(shù)：

一、事件時間程序：

主板可設(shè)時間程序（外部事件）：13路

二、電壓范圍：

220伏±10% 其他電壓＋5%  －10%

三、加熱區(qū)：

1.十個獨立加熱區(qū)控制（包括爐箱溫控）

2.輔助加熱區(qū)最高操作溫度：400℃

3.可設(shè)定獨立小柱箱加熱區(qū)

四、柱溫箱的指標：

1.柱箱尺寸:280×300×180 mm

2.操作溫度范圍：高于室溫5℃～400℃

3.可使用液氮冷阱：—80℃至400℃

4.可使用干冰冷阱：—55℃至400℃

5.程序升溫：24階25平臺

6.溫度設(shè)定精度：0.1℃

7.最高程序升溫速度: 120℃/min

8.最長一次方法運行時間：999.99min

9.可運行柱流失補償（雙通道）

10.從350℃降至50 ℃時間≤4min，(配有變頻電機)

五、進樣口：

1.雙通道進樣口

2.進樣口類型可選：

3.填充柱進樣口（帶隔墊吹掃，可接大口徑毛細管柱）

4.毛細管柱分流/不分流進樣口）

5.程序升溫冷柱頭進樣口

6.揮發(fā)性組分串接進樣口（專配與頂空/吹掃捕集/熱脫附等樣品預(yù)處理裝置）

六、填充柱進樣口：

1.高精度電子壓力/流量控制

2.最高使用溫度400°C

3.柱頭壓力設(shè)定范圍：0-100psi

4.柱頭壓力控制設(shè)定精度：0.01psi

5.總流量設(shè)定范圍：0 to 100 mL/min

6.流量設(shè)定精度：0.1mL/min

7.更換變徑接頭可適配與1/4英寸，1/8英寸填充柱，以及0.53/0.32mm毛細管柱

七、分流/不分流毛細管柱進樣口：

1.高精度電子壓力/流量控制

2.最高使用溫度400°C

3.柱頭壓力設(shè)定范圍：0-100psi

4.柱頭壓力控制設(shè)定精度：0.01psi

5.總流量設(shè)定范圍：

0 —1000ml/min（氦氣）

0 —200ml/min（氮氣）

6.流量設(shè)定精度：0.1ml/min

7.最大分流比：1：1000

八、程序升溫冷柱頭進樣口：

1.高精度電子壓力/流量控制

2.柱頭壓力控制設(shè)定精度：0.01psi

3.柱頭壓力設(shè)定范圍：0—100psi

4.最高使用溫度400°C

5.柱箱溫度跟蹤模式、自遍程序升溫模式

6.適配0.53/0.32/0.25/0.20mm毛細管柱

九、揮發(fā)性串接進樣口：

1.高精度電子壓力/流量控制

2.柱頭壓力設(shè)定范圍：0—100psi

3.柱頭壓力控制設(shè)定精度：0.01psi

4.總流量設(shè)定范圍：0-1000 ml/min（氦氣或者氫氣）

5.流量設(shè)定精度：0.1ml/min

6.最高使用溫度400°C

十、檢測器：

1.所有檢測器均包括為電子流量控制模塊。

2.可選配檢測器

?氫火焰離子化檢測器（FID, 對數(shù)放大器）

②熱導(dǎo)檢測器（TCD）

③電子捕獲檢測器（微池ECD）

④火焰光度檢測器（FPD）

⑤氦離子化檢測器（PDHID）

十一、氫火焰離子化檢測器（FID）：

1.高精度電子流量/壓力控制

2.適配與填充柱和毛細管柱

3.最高使用溫度400°C

4.最小檢出限：<1.0pg/s（n-C16）

5.動態(tài)線性范圍：107（+10%）

6.數(shù)據(jù)采集頻率：最高100HZ

十二、電子捕獲檢測器（ECD）：

1.高精度電子流量/壓力控制

2.適配與填充柱和毛細管柱

3.最高使用溫度400 °C

4.隱性陽極（帶吹掃）

5.檢測器補償氣類型：5%甲烷/氬氣或者氮氣

6.數(shù)據(jù)采集頻率：最高100Hz

7.動態(tài)線性范圍：>5*105

8.最小檢出限：<10fg/ml(丙體六六六)

十三、火焰光度檢測器（FPD）：

1.高精度電子流量/壓力控制

2.最高使用溫度400 °C

3.最小檢出限：<10pg S/sec,  <0.2pgP/sec (甲基對硫磷)

4.動態(tài)線性范圍：>103S，>104P

十四、熱導(dǎo)檢測器（TCD）：

1.電子壓力/流量控制

2.最高操作溫度300 °C

3.最低檢測限（MDL）：< 400 pg /ml(C3H8)，使用He載氣(實驗室環(huán)境可能會影響MDL)

4.靈敏度：>10000 mv?ml/mg

5.線性動態(tài)范圍：105 (± 10%)

十五、輔助電子流路控制模塊：

1.三通道輔助壓力控制模塊（壓力控制模式）

2.二通道輔助壓力控制模塊（壓力控制模式）

3.單通道輔助壓力控制模塊（壓力控制模式）

4.單通道氣體流路控制模塊（壓力/流量控制模式）